Korvus Technology-HEX薄膜沉積系統
The HEX Series – Modular Deposition Systems
HEX系列是一種緊湊且高度靈活的沉積系統,使用戶可以完全自由的
重新配置設備,以滿足當前的實驗需求或未來的方向變化。
詳細介紹

HEX - 模塊化沉積系統
HEX系列是一種緊湊且高度靈活的沉積系統,使用戶可以完全自由地重新配置設備,以滿足當前的實驗需求或未來的方向變化。該系統可以在最基本的水平上購買,然後在資金允許的情況下升級為複雜的沉積和分析工具。所有升級都旨在簡化用戶實施,減少不必要的安裝費用HEX的開發考慮了學生培訓。其模塊化結構允許暴露,討論和交互各種關鍵元素,使學生實驗室能夠充分探索薄膜研究和納米材料的機械,材料和生長元素。HEX能夠以較低的額外費用快速重新配置,使其能夠在可重複和可識別的平台上輕鬆進行培訓,適用於各種沉積/塗層技術,從表面分析的樣品製備到電子束,濺射,熱,有機物(用於OLED研究) )和一系列其他薄膜沉積技術。HEX薄膜沉積系統的一些典型應用是剝離,EM樣品製備,接觸金屬化,新塗層的研究和開發以及濺射沉積,然而係統的模塊化設計允許在幾分鐘內重新配置並確保它可以用於更多的應用程序。

模塊化設計
HEX系統的真空室由六面鋁框架組成,這使得系統重量輕,同時提供剛性結構。該框架支持6個可互換的面板,可以輕鬆更換,以實現所需的系統配置。必要時添加或移動沉積儀器。由於獨特的法蘭設計,側板可用作腔室壁(空白面板),視口面板,沉積源面板,PLD儀表板或QCM面板(可根據要求提供更多選項)。HEX系列設計的模塊化特性意味著面板可以在幾分鐘內安裝到框架上,所有水和氣體連接都是哈姆雷特快速連接,樣品台和組件都使用翼形螺母連接,所有這些都節省了執行維護程序和重新配置系統時需要相當長的時間。基礎HEX型號配備80/秒渦輪泵和隔膜背襯,最終基礎壓力為8 x 10-7mbar,可升級至300/秒泵,基本真空度為4 x 10-7mbar。標準HEX系統允許最大100毫米(4英寸)的樣品,包含多個樣品架,以便一次安裝許多較小的樣品,較大的HEX-L室可容納高達150毫米的樣品(6英寸) )並配備300/秒渦輪泵和乾式渦旋前級泵。HEX系列沉積系統完美地貼合在實驗室工作台上,也可以安裝在框架上,使其成為教學實驗室,工業研究和開發部門以及潔淨室的理想工具。它們還可以集成到手套箱中,以便在惰性氣氛中進行研究,並提供一系列現場測量選項。